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【24h】

Semi-Analytic Boltzmann Equation Model for the Substrate Current of Short-Channel MOSFETs with Lightly Doped Drains

机译:具有轻质掺杂漏斗的短通道MOSFET基板电流的半分析Boltzmann型号

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摘要

This paper presents a new technique for obtaining practical formulae for the impact ionization (Ⅰ.Ⅰ.) generation rate (G_(ⅱ)) in ultra-short-channel Lightly Doped Drain (LDD) MOSFFTs. A new formulae for the substrate current (Ⅰ_(sub)) is developed.
机译:本文提出了一种用于获得冲击电离的实际公式的新技术(Ⅰ.Ⅰ.Ⅰ.)在超短通道轻掺杂漏极(LDD)MORFFTS中的产生率(G_(Ⅱ))。开发了基板电流的新公式(Ⅰ_(Ⅰ℃)。

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