Materialstrukturierung und -modifizierung mit 157 nm Laserstrahlung

摘要

Der Fluor(F_2) - Laser gewinnt aufgrund seiner Eigenschaften zunehmend an Bedeutung auf dem Gebiet der Halbleiterfertigung sowie optischer Technologien fur Anwendungen in der Optik, Medizin und Elektronik. Die extrem kurze Wellenlange 157 nm (hohe Photonenenergie: 7,9 eV) ermoglicht die optisch hoch aufgeloste Lasermaterialbearbeitung einer breiten Materialvielfalt. Vor allem Materialien mit hohen Bindungsenergien, wie beispielsweise Teflon oder das bei hoheren Wellenlangen optisch hoch transparente Quarzglas konnen mit dem F_2 - Laser durch Photoablation effektiv bearbeitet oder in ihren Eigenschaften modifiziert werden. Am IPHT wurde ein Laserbearbeitungsplatz zur Mikrostrukturierung im Vakuum-UV-Spektralbereich aufgebaut. Anhand ausgewahlter Beispiele werden Ergebnisse der Laserstrukturierung durch Materialabtrag von Teflon und Materialmodifizierung von Quarzglas vorgestellt.