机译:亚微米GaAs MESFET器件仿真的弛豫时间近似值精度
机译:关于“亚微米GaAs MESFET器件仿真的弛豫时间近似精度”的评论
机译:离子注入测试的TCAD模拟,用于控制用于制造植入设备的GaAs衬底的质量
机译:使用TCAD工具仿真GaAs MESFET设备
机译:使用TCAD仿真探索硅/硅锗量子阱薄膜热电器件。
机译:用TCAD工具对生物传感设备的ISFET结构进行数值模拟
机译:使用TCAD工具对GaAs和SOI设备进行计算机仿真:一个REU项目
机译:LsI / VLsI(大规模集成/超大规模集成)离子注入Gaas(砷化镓)IC处理。附录B.用于集成高速逻辑电路的Gaas mEsFET器件的二维建模