机译:Cu的作用对由高功率脉冲磁控溅射和脉冲DC磁控溅射组合的混合系统沉积的TIB2膜微观结构和性能
机译:调制脉冲功率(MPP)发生器产生的稳态大功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)放电的沉积速率特性
机译:高功率脉冲磁控溅射和脉冲磁控溅射沉积氧化钇稳定的氧化锆薄膜
机译:磁控溅射系统中脉冲发生器的新型拓扑
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:低温下大功率脉冲磁控溅射在铀上沉积的TiN膜
机译:从调制脉冲功率磁控溅射(MPPMS)到深振荡磁控溅射(DOMS)的延迟放电桥接两种溅射模式