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高温アニールAlN上AlGaN成長における超格子構造導入による歪み緩和

机译:由于超晶格结构导致的畸变松弛在高温退火aln上的AlGaN生长中引入

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摘要

高効率なAlGaN系発光デバイスの実現には、低コストで高品質なAlGaN下地層が必要である。これまでに我々は、サファイア基板上にスパッタ法でAlNを堆積させた後、高温アニール処理を行うことで高い結晶性を有するAlNテンプレート(FFA Sp-AlN)を作製できることを報告した[1]。しかし、サファイアとAlNの熱膨張係数差によりFFA Sp-AlNは膜中に強い圧縮歪みを持つことが明らかになっている[2]。そのため、FFA Sp-AlNテンプレート上にAlGaN層を成長させると強い圧縮歪みを引き継ぎ、基板の反り増大や量子井戸構造での歪み緩和を引き起こすと考えられる。本研究では、FFA Sp-AlNテンプレート上に歪み緩和したAlGaN層を成長させることを目的として、同テンプレートとAlGaN層の間にAlN/GaN超格子(SLs)構造を挿入し、歪み緩和の効果を検討した。
机译:实现高效的基于AlGaN的发光装置需要低成本和高质量的AlGaN底层。到目前为止,我们已经报道了通过溅射在蓝宝石底物上沉积ALN,然后可以进行高温退火以产生高结晶度ALN模板(FFA SP-ALN)[1]。然而,由于蓝宝石和AlN的热膨胀系数的差异,已经揭示了FFA SP-ALN在膜中具有强烈的压缩菌株[2]。因此,认为当AlGaN层在FFA SP-ALN模板上生长并且具有基板的应变浮雕和量子阱结构时,拍摄强度压缩变形的生长。在该研究中,在模板和AlGaN层之间插入ALN / GaN超晶格(SLS)结构,并且突出了变形弛豫的效果,并研究了变形松弛。

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