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真空アーク蒸着法により作製したSi基板上Nd-Fe-B系磁石膜の諸特性に及ぼす放電エネルギーの影響

机译:放电能量对真空电弧沉积法制备的Si衬底上Nd-Fe-B磁体膜各种特性的影响

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摘要

本研究では真空アーク蒸着法を用い,500 nm厚熱酸化膜付きSi基板上にNd-Fe-B磁石膜を作製する際,磁石膜のNd含有量や放電エネルギーをパラメータとして磁気特性ならびに機械特性を検討した。得られた知見と今後の課題を以下に示す。
机译:在这项研究中,当使用真空电弧气相沉积法在具有500 nm厚热氧化膜的Si衬底上形成Nd-Fe-B磁体膜时,利用Nd含量和放电能量设定磁特性和机械特性。以磁铁膜的参数为参数进行了研究。所获得的发现和未来的问题如下所示。

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