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A 12nm FinFET Technology Featuring 2nd Generation FinFET for Low Power and High Performance Applications

机译:具有第二代FinFET的12nm FinFET技术,适用于低功耗和高性能应用

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摘要

We present a state-of-art 12LP FinFET technology with PPA (Performance, Power, and Area) improvement over 14LPP. 12LP enables >10% area reduction including a 7.5T library and 16% power reduction at fixed frequency or a 15% performance improvement at given leakage over 14LPP with comparable reliability and yield. In addition, SRAMs benefit from a 30% leakage reduction at the same Iread. 12LP extends the 14nm technology with compelling performance and area scaling.
机译:我们在14LPP中提出了一种最先进的12LP FinFET技术,PPA(性能,功率和面积)改进。 12LP可实现> 10%的面积减少,包括7.5T文库和固定频率的16%功率降低或超过14LPP的泄漏的15%性能改善,具有相当的可靠性和产量。此外,SRAMS在同一IREAD下损失了30%的泄漏减少。 12LP扩展了14nm技术,具有令人信服的性能和面积缩放。

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