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【24h】

A high linearity LNA using 180 nm CMOS technology for S-Band

机译:采用180 nm CMOS技术的S波段高线性LNA

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摘要

In this paper, a single-stage cascode low noise amplifier (LNA) was designed using UMC 180 nm complementary metal oxide semiconductor (CMOS) technology for 2.025-2.12 GHz (S-Band), specifically aimed for cryogenic applications. All transistor gates have electrostatic discharge (ESD) protection. The LNA achieved 15.8 dB gain, +2 dBm IIP3, and 1.6 dB noise figure (NF) at 2.075 GHz drawing 7.66 mA current from a 1.8 V supply. With regard to its counterparts, the LNA performs better in terms of its IIP3 outcome.
机译:在本文中,使用UMC 180nm互补金属氧化物半导体(CMOS)技术为2.025-2.12 GHz(S频带)设计了单级共源共源频率低噪声放大器(LNA),专门针对低温应用。所有晶体管栅极都具有静电放电(ESD)保护。 LNA在2.075GHz的2.07V GHz绘制7.66MA电流下实现了15.8dB增益,+ 2 dBM IIP3和1.6 dB噪声系数(NF)。关于其对应物,LNA在其IIP3结果方面表现更好。

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