(Ti,V)O_2/TiO_2(100)膜における膜厚がスピノ一ダル分解に与える影響

摘要

TiO_2-VO_2系はバルタでスピノー ダル分解を起こすことが知られている[1]。正方晶TiO_2-VO_2系のスピノー ダル分解ではc軸方向に沿って組成変調がおこり、Ti-richとV-rich相が交互に並hだラメラ構造ができる。TiO_2(100)基板に作製した膜厚50 nmのTiVO_2膜では、スピノー ダル分解の発生と約20 nmの周期を持つラメラ構造が観測されている。膜厚の変化がスピノーダル分解に与える影響に興味が持たれるがこれまでに報告されていない。そこで私たちは、膜厚がスピノーダル分解の進行度ゃラメラ構造に与える影響を調べた。