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テラヘルツ波誘起表面周期構造の高時間分解観測を目指した高強度テラヘルツ光源の開発

机译:针对太赫兹波引起的表面周期性结构的高时分解观测的高强度太赫兹光源的开发

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摘要

高強度の電磁波を金属や半導体に照射すると、表面に電磁波の回折限界以下の微細な周期的構造が形成される。これはLIPSSと呼ばれており、すでに国内外で数多くの報告がなされている。その一例として、チタンサファイアレーザー(λ=800 nm)をTiに照射すると、最初に格子間隔60 nmで電場の偏光に平行な周期構造が形成される。照射回数を増やしていくと、間隔600 nmで偏光に垂直な周期構造へと成長する。また、近年テラヘルツ波によるLIPSS形成も報告されており、大阪大学にあるTHz-FELを用いて発生させたテラヘルツ波(λ=82μm)をSiに照射することで、格子間隔4μmで偏光に平行な周期構造が形成されている。しかし、LIPSS形成のメカニズムは完全に明らかにはされておらず、仮説の提唱にとどまっているというのが現状である。仮説の検証のためには LIPSS 形成の時間発展を高時間分解で観測する必要があるが、レーザーによるLIPSS はフェムト秒のタイムスケールで形成されることと格子間隔が可視光の波長よりも短いことから、観測が困難であると考えられる。そこで我々は、テラヘルツ波がピコ秒のパルス幅を持つこと、格子間隔が可視光の波長よりも長いことに着目し、テラヘルツ波によるLIPSS形成の時間発展の観測を目指して、高強度テラヘルツ光源の開発および放射特性の評価を行った。
机译:当用高强度电磁波照射金属或半导体时,在表面上形成低于电磁波的衍射极限的精细周期性结构。这就是所谓的LIPSS,国内外已经有许多报道。例如,当用钛蓝宝石激光器(λ= 800 nm)照射Ti时,首先以60 nm的晶格间距形成平行于电场极化的周期性结构。随着辐照次数的增加,它会长成垂直于偏振光的周期性结构,间隔为600 nm。近年来,也报道了太赫兹波形成LIPSS的情况,在大阪大学以太赫兹-FEL产生的太赫兹波(λ= 82μm)照射Si,与具有4μm的晶格间隔的偏振光平行。形成周期性结构。然而,LIPSS形成的机理尚未完全阐明,目前的情况是它仍然是一个假设。为了检验该假设,有必要以高时间分辨率观察LIPSS形成的时间演化,但是激光LIPSS是在飞秒级的时间尺度上形成的,其晶格间距小于可见光的波长。认为很难观察。因此,我们着眼于太赫兹波具有皮秒脉冲宽度且晶格间距大于可见光波长的事实,旨在观察太赫兹波形成LIPSS的时间演变,并旨在观察太赫兹波的时间演变。通过太赫兹波形成LIPSS,并进行了辐射特性的开发和评估。

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