机译:磁控溅射Al2O3陶瓷靶材在不同的射频功率和氩压下通过磁控溅射沉积的Al2O3薄膜的主要性能及其对p型c-Si晶片的钝化作用
机译:功率变化对射频磁控溅射沉积HgCdTe薄膜组织和表面形貌的影响
机译:功率变化对射频磁控溅射沉积HgCdTe薄膜组织和表面形貌的影响
机译:通过Helicon溅射沉积的CdTe薄膜,用于p型Hg0.77cd0.23te表面钝化
机译:通过溅射沉积在硅(001)衬底上沉积的金薄膜的表面形态。
机译:反应堆磁控溅射沉积p型缺铜Cu Cr0.95-xMg0.05 O2薄膜的光电性能
机译:功率变化对射频磁控溅射沉积HgCdTe薄膜微观结构和表面形貌的影响
机译:溅射沉积的氧化铁薄膜的溶解用作铁上钝化膜的模型