laser pattern generator; photomask; data path; corner rounding; throughput; EUV fiducial alignment;
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:深紫外激光在CaF2光学器件中引起光学损伤的开始
机译:深紫外激光在CaF_(2)光学器件中引起光学损伤的开始
机译:用于光学和EUV面罩的深紫色多光束激光书写
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:硅深紫外氮化硅微盘激光器
机译:空间梁强度使用由飞秒直接激光写入制造的单模光纤上的相位掩模