原子層堆積法による平坦なZnO薄膜の成長条件調査

摘要

電子線励起アシスト光学顕微鏡(EXA顕微鏡)による試料の観察は従来の光学顔微鏡と比較して高分解能で生体材料を観察できるという特徴がある.しかし,EXA 顕微鏡の課題として広い範囲で平坦かつ発光強度の高い発光基板が必要である.したがって,原子層堆積法(ALD)による平坦なZnO薄膜の成長条件の調査を行った.また,成長させた薄胰をァニール処理することにより薄膜のさらある平坦化を図った.薄膜の評価はアルファステップにより膜厚を,AFMにより表面粗さを,XRDにより結晶構造を,CL特性評価により発光強度の評価を行った.その結果,DEZnのパージ時間を增やすことにより平坦な薄膜が得られ,発光強度が強くなった.また,ァニール処理をすることにより表面粗さが増加した.したがって,原子層堆積法で平坦なZnO薄膜を得るためにはDEZnのパージ時間を増加させることが重要であるということが分かった.