机译:通道层沉积过程中$ {rm O} _ {2} $流量对栅极偏置偏置引起的a-IGZO TFT $ V_ {rm th} $位移的影响
机译:具有直流和射频溅射沟道层的a-IGZO TFT的比较研究
机译:用顶部IGZO层分析A-IGZO TFT中的有效通道长度
机译:A-IGZO TFT在具有三层通道层的I-V和C-V曲线之间的矛盾行为
机译:残余应力引起的R曲线对脆性材料断裂行为的影响。
机译:通过刻蚀停止层纳米层的清洁界面工艺增强a-IGZO TFT器件的性能
机译:通过蚀刻停止纳米层使用清洁接口处理来增强A-IGZO TFT器件性能