Photosensitized Chemically Amplified Resist™; PSCAR™; sensitivity; resolution; LER; RLS trade-off;
机译:国际空间站上太阳自动校准EUV光谱仪(SolACES)的EUV数据处理方法
机译:使用DDR工艺制造高纵横比透射光栅,以通过EUV干涉光刻技术评估10 nm EUV抗蚀剂
机译:使用DDR工艺制造高纵横比传动光栅10nm EUV抗蚀剂评估通过EUV干扰光刻
机译:构建强大的PSCAR? EUV的过程
机译:预测由于光学和EUV光刻制造工艺的相互作用而导致的器件晶圆上的覆盖错误
机译:在EUV大气模拟室上研究泰坦大气的光化学过程
机译:基于实验的方法构建冷冻干燥过程的工艺设计空间:一种为制药设计最佳和鲁棒冷冻干燥过程的有效工具