BEoL Metal layer patterning; Dual Damascene; EUV; 193i; Etch; Metallization; Electrical tests;
机译:带有二茂铁基侧基有机金属官能团的杂化聚合物材料:使用EUV光刻的合成及其在纳米图案中的应用
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:EUV图案化策略可补偿EUV散粒噪声
机译:IN7 EUV杂交和EUV单图案化BEOL金属层的电气比较
机译:用于光刻的DUV和EUV光掩模中非平面相和多层缺陷的快速仿真方法。
机译:通过非化学放大光刻胶的EUV定向极性切换对复杂纳米特征的高度有序阵列进行构图
机译:EUV-CDa:EUV掩模布局的模式转换感知临界密度分析
机译:Ta sub 2 N - Cr - au和Ta sub 2 N - Cr - pd - au杂化金属化体系的比较 - Dc电性能,电阻器老化,耐腐蚀性和铬层耗尽研究。