Scatterometry; EUV Masks; Error Propagation; Phase Retrieval; Mask 3D Effects; Multiple Scat-tering; Multilayer Mirror; Rigorous Coupled-Wave Analysis;
机译:在波长相干散射显微镜上使用高次谐波进行EUV掩模检查
机译:使用EUV显微镜进行光化掩模检查:制备用于相缺陷检测的Mirau干涉仪
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:参数掩模量化的散光EUV散射测定法
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:可以改善序列比对中的随机性的参数和非参数掩蔽并导致更好的解析树
机译:EUV-散射仪和有限元分析的EUV掩模计量