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A new sharp switch device integrated in 28 nm FD-SOI technology

机译:集成了28 nm FD-SOI技术的新型锋利开关设备

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摘要

A novel 2-components sharp switch device integrated in high-k metal gate UTBB 28 nm FD-SOI technology is presented, analyzed and measured in DC. It features a subthreshold slope of 2 mV/decade and offers several parameters to tune its characteristic, for ESD or neuromorphic applications.
机译:提出了一种在高k金属栅极UTBB 28 nm FD-SOI技术中集成的新型2组件尖锐开关器件,并在直流中对其进行了分析和测量。它具有2 mV /十倍的亚阈值斜率,并提供了多个参数来调节其特性,适用于ESD或神经形态应用。

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