EUV(Extreme ultraviolet); pellicle; OPC(Optical proximity correction); EPE(Edge placement error);
机译:通过光学邻近校正实现吞吐量补偿,以实现极紫外防护膜
机译:极端紫外线光刻掩模的缺陷补偿和光学邻近校正的快速优化
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:极端超紫色面罩用薄膜的光学接近校正
机译:通过光学邻近校正来补偿极紫外光刻图像场边缘效应。
机译:勘误:使用两种颜色的光学频率梳对空气折射率进行极高精度的校正
机译:软X射线/极端超紫光光学装置的电流状态
机译:Ionenstrahllithographie:Entwicklung Eines 1:1 proximity projektionsverfahrens auf der Basis von Channeling-masken(离子束光刻:开发基于通道掩模的1:1接近投影方法)