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【24h】

A two-gap capacitive structure for high aspect-ratio capacitive sensor arrays

机译:用于高纵横比电容传感器阵列的两间隙电容结构

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摘要

This paper presents a two-gap CMOS-compatible technology to fabricate very tall (>500¿¿m) 3D high aspect-ratio (HAR) silicon structures with narrow HAR sensing gaps (
机译:本文提出了一种两间隙CMOS兼容技术,以制造具有狭窄HAR感应间隙的非常高(>500μm)3D高纵横比(HAR)硅结构(

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