Atomic layer deposition (ALD); Nano optical devices; Optical materials; Thermo-optic coefficient; Diffraction gratings; Diffusion-barrier layers; Ellipsometry;
机译:Al_2O_3薄膜的热性质及其阻挡层对原子层沉积生长TiO_2薄膜的热光性质的影响
机译:通过原子层沉积在不同温度下生长的非晶和结晶TiO_2薄膜的椭圆偏振光谱分析
机译:原位光谱椭偏仪研究原子层沉积TiN薄膜的初始生长和性能
机译:光谱椭偏仪用于传感应用的原子层沉积TiO_2-Al_2O_3双层薄膜的热光表征
机译:光谱反射法和椭圆偏振法测定固体薄膜的光学性能
机译:通过原位光谱椭圆偏振法在金属氧化物薄膜的等离子体增强原子层沉积过程中发现前体-表面相互作用
机译:等离子体辅助原子层沉积法原位光谱椭偏法研究超薄TiN薄膜的生长
机译:光谱椭偏法测定有机薄膜的光学性质。