extreme ultraviolet; EUV; mask; microscope; coherence; zoneplate; imaging;
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:使用EUV显微镜进行光化掩模检查:制备用于相缺陷检测的Mirau干涉仪
机译:SHARP极紫外掩模显微镜上的变形成像仿真
机译:SEMATECH高NA光化分划板审查项目(SHARP)EUV掩模成像显微镜
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:荧光显微镜图像的有源遮分割
机译:SemaTech高NA光旋能疱疹综述项目(夏普)EUV掩模 - 成像显微镜
机译:光化掩模成像:sHaRp EUV显微镜的最新结果和未来方向。会议:极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:期刊出版日期:2014年4月17日。