Substrates; Logic gates; Silicon; Strain; Silicon germanium; Performance evaluation; Germanium;
机译:用STI的第一个和最后一个工艺制造的Ge pFinFET在低温下的CV迁移率分离
机译:螺纹位错对在应变锗衬底中制造的器件的特性有影响吗?
机译:通过在低能量等离子体增强的化学气相沉积上梯度取向的Ge / Si虚构的金属有机化学气相沉积单片生长的应变InGaAs / GaAs量子阱结构的长波长室温激光操作
机译:低温操作对采用STI最初和最后工艺制造的长沟道应变Ge pFinFET的影响
机译:热障涂层形态和催化性能对低温燃烧发动机缸内过程的影响
机译:通过顺序湿法蚀刻工艺制造不同几何截面的聚二甲基硅氧烷微流体通道的一步方法
机译:不同GE PFINFET STI工艺的低频噪声评估