Silicon nitride; GaN; ICPCVD; RF power; Film surface;
机译:电感耦合等离子体CVD沉积的低温氮化硅膜的沉积与表征
机译:后退火对氮氧化硅膜中缺陷状态的去除的影响,该氮氧化硅膜是通过在感应耦合氮等离子体中氮化的硅衬底氧化而生长的
机译:通过电感耦合等离子体CVD沉积的硅膜的光电特性
机译:ZnO膜在(0001)A1_2O_3和(111)Si衬底上沉积的ZnO膜通过MOCVD用作缓冲层的ZnO薄膜生长的GaN层
机译:氢在PECVD沉积的氮化硅薄膜中的重新分布。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:热退火对PECVD沉积的无定形碳氮化物膜性能的影响