ナノシリカ粒子をマスクとしたドライエッチング手法による垂直磁化FePtナノドット形成の検討

摘要

我々は超高密度記録媒体用孤立ナノ磁性体形成を目的としており、均質な連続膜状磁性体をエッチング加工することによる形成手法につき検討している。これまで、平均粒径18nmのシリカ粒子を用いて熱酸化Si基板上へ単層の自己集積化ナノシリカ粒子層（Self-Assembled Silica nano Particles layer ： SASP)を形成、エッチングマスクとして用いることでSASPのナノ凹凸構造を転写した基板形成が可能であることを報告している。本報告では本手法をFePt連続膜に応用することで孤立したナノ磁性ドット形成について検討。また、エッチング加工後のFePt連続膜の磁気特性評価を行った。