机译:CMOS成像器可以进行电荷耦合:现有的技术可以增加CMOS成像器的电荷耦合,从而为低成本CMOS器件带来电荷耦合的低噪声优势
机译:通过硅过孔(TSV)工艺针对RF /混合信号SoC进行的衬底噪声耦合隔离技术
机译:单个电荷陷阱或随机接口陷阱在全栅硅纳米线MOSFET中产生的随机电报噪声
机译:利用接口电荷引起的反转电荷降低通过硅通孔(TSV)的耦合噪声的新警卫技术
机译:三维(3-D)集成电路(IC)中的硅通孔(TSV)相关噪声耦合。
机译:La0.7Ca0.3MnO3 / LaNiO3界面的费米能级移位电荷转移和感应磁耦合
机译:掺杂硅中的电场感应电荷噪声:电离 磷供体
机译:电荷耦合器件(CCD)和电荷注入器件(CID)成像器中的辐射感应噪声。