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【24h】

BiFeO_3スパッタ膜の電気特性へのBi欠損の影響

机译:铋缺乏对BiFeO_3溅射薄膜电学性能的影响

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摘要

室温で強誘電性と反強磁性を持つマルチフエロイック材料BiFe_O3 (BFO)薄膜については極めて多数の報告 があり、その作製においては蒸気圧の低いBiの欠損を防ぐため、Bi過剰のソースを用いることが多い。し かし、Bi欠損が膜の電気特性にどのように影響するか議論している例は少ない。本研究では、膜中のBi量 を変化させるためBi過剰量を変えたターゲットを用いてBFOスパッタ膜を作製し、構造的変化および電気特 性をBi欠損との関連から議論した。
机译:关于BiFe_O3(BFO)薄膜的报道很多,BiFe_O3(BFO)薄膜在室温下是多铁电和反铁磁材料,在制造过程中,使用Bi过量源可防止低蒸汽压Bi的损失。但是,很少有讨论Bi缺乏如何影响膜的电学性质的例子。在该研究中,使用靶改变BFO溅射膜,其中改变过量的Bi的量以改变膜中的Bi的量,并讨论了与Bi缺乏有关的结构变化和电特性。

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