negative tone development; image reversal; ArF lithography extendibility; contact layer; metal layer; resolution enhancement; double exposure;
机译:比较用于印刷32纳米和22纳米节点的金属层和接触层的正色调和负色调显影工艺
机译:比较用于印刷32纳米和22纳米节点的金属层和接触层的正色调和负色调显影工艺
机译:使用浸入式单曝光和负色调显影的低于30nm节点接触孔图案
机译:为32和22 NM节点印刷金属和接触层:比较正负音调开发过程
机译:22nm过程节点中不同SRAM变化的调查
机译:与乳腺癌临床节阴性患者的常规腋窝淋巴结解剖相比肠道淋巴结切除与患有乳腺癌的常规腋窝 - 淋巴结剖析相比:来自NSABP B-32随机阶段3试验的总体存活结果
机译:正负弱相移65 nm节点接触的成像研究