photoresist; model; simulation; etch; OPC; computational lithography;
机译:工艺参数对无掩模等离子体计算光刻中图案形成的影响
机译:在人体纹理处理中将心理物理学和皮层细胞激活模式联系起来的计算模型
机译:溶液处理有机半导体的非浮雕光刻图案
机译:计算光刻中图案化过程模型的演变
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:基于图案化集成软光刻工艺的微透镜阵列的仿昆虫成像系统
机译:使用胶体光刻和等离子处理技术在硅基板上进行纳米级蛋白质构图
机译:用于处理斑点条纹图案的计算,模型和实验,示例训练神经网络的比较