首页> 外文会议>International Conference on Actual Problems of Electron Devices Engineering >Multibeam electron gun with arc-plasma deposing dispenser (impregnated) cathode
【24h】

Multibeam electron gun with arc-plasma deposing dispenser (impregnated) cathode

机译:具有弧等离子体的多芯电子枪减少分配器(浸渍)阴极

获取原文

摘要

This paper deals with 19-beam electron gun was calculated and projected with using single dispenser (impregnated) cathode with porous matrix which are build with the aid of arc-plasma depositing of tungsten powder on molybdenum wafer.
机译:使用单一分配器(浸渍的)阴极与多孔基质的借助于钼粉末沉积钼粉末的弧菌沉积,计算并投影并投影并投影了与19梁电子枪进行计算并投影。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号