semipolar nitrides; 3C-SiC; Si substrates;
机译:使用氮化铝和3C-SiC缓冲层在邻近Si(001)衬底上生长的半极镓氮化物层中的位错反应
机译:在Si(001)衬底上生长的半极性GaN层的TEM研究
机译:在3C-SiC /(001)Si衬底上生长的半极性(bar(20(2)over-bar3)氮化物)
机译:在具有3C-SiC缓冲层的Si(001)边界衬底上生长的半极性氮化物
机译:氮化锆/氮化铝缓冲层,用于在硅基板上外延生长(铟,镓)氮化物。
机译:GaAs(001)上生长的高质量100 nm厚InSb膜具有InxAl1-xSb连续渐变缓冲层的基板
机译:在(001)和(111)Si衬底上生长的3C-SiC层中的曲率和应力分析