Tungsten Carbide Thin Films, Field Emission, Work Function;
机译:暴露于原子氧下的氧化钨纳米线薄膜的表面化学,气致变色与场发射特性之间的相关性
机译:[顺-(1,3-二烯)_2W(CO)_2]络合物作为MOCVD前驱体,用于沉积薄钨-碳化钨薄膜
机译:[顺式-(1,3-二烯) 2 sub> W(CO) 2 sub>]络合物作为MOCVD前驱体,用于沉积薄的钨-碳化钨薄膜†< / sup>
机译:温度对碳化硅上氧化钨纳米簇的场发射特性的影响
机译:硅化钨和外延硅化钇的薄膜形成及性能。
机译:射频磁控溅射碳化硅和钨hen基薄膜热电偶保护涂层的热电特性
机译:六氟化钨碳化钨膜的形成。
机译:用于器件应用的溅射碳化硅和钨薄膜的反应离子蚀刻