lithography; arf photoresist; soft bake; post exposure bake; PR profile;
机译:在光致抗蚀剂上记录表面浮雕光栅中窦曲面的优化
机译:迁移率增强技术对90nm以下SOI nMOSFET器件性能和可靠性的影响
机译:应力技术对<100>低于90nm的绝缘体上硅互补金属氧化物半导体场效应晶体管的器件性能和可靠性的影响
机译:基于ROMA聚合物的高性能193nm光刻胶材料;电阻回流低于90nm的接触孔应用
机译:先进的工艺技术,用于在集成电路制造中去除图案化的离子注入光刻胶
机译:优化的等离子体辅助双层光致抗蚀剂制造方案用于在多孔聚合物膜上高分辨率地细微制造薄膜金属电极
机译:用于亚90nm CmOs技术的新型去耦电容器设计