extreme ultraviolet lithography (EUVL); EUV optics contamination; EUV optics lifetime; ruthenium; ru(l0l0); ru(0001); water; mitigation; methyl methacrylate (MMA); electron induced reactions; secondary electron;
机译:低二次电子产率的工程表面,可减轻电子云
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机译:通过激光烧蚀表面工程降低二次电子产量以缓解E-cloud
机译:碳积聚和缓解过程,钌表面的二次电子产量
机译:表面科学中的两个主题:氧诱导镍铝Al(111)的形态变化;与极紫外光刻相关的钌和二氧化钛表面的二次电子产率研究。
机译:SiO2胶体和十二烷基硫酸钠胶束系统中的光敏电子转移过程:量子产率与界面表面电势的关系
机译:低二次电子产率的工程表面,可减轻电子云