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NanoBond: Target Bonding for Optimum Sputtering Performance

机译:NanoBond:目标键合以获得最佳溅射性能

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摘要

NanoBond~R offers an improved method for bonding sputtering targets to backing plates. It utilizes a metallic foil, NanoFoil~R, to generate localized heating during bonding. The heat is so precisely controlled that, while it is sufficient to reflow solder layers, it does not heat up the target or backing plate. Stress-free bonding of any combination of materials using high melting temperature solder is therefore possible. NanoBond thus offers many advantages compared to conventional bonding processes.
机译:NanoBond〜R提供了一种将溅射靶材粘合到背板上的改进方法。它利用金属箔NanoFoil〜R在粘合过程中产生局部加热。如此精确地控制热量,即使回流焊料层就足够了,也不会加热靶材或背板。因此,可以使用高熔点焊料无应力地粘接材料的任何组合。因此,与传统的键合工艺相比,NanoBond具有许多优势。

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