机译:具有镍刻蚀石墨烯触点的低接触电阻石墨烯器件
机译:通过表面处理在GaN发光二极管应用中在反应离子刻蚀的n型GaN上形成非合金Ti / Al / Ni / Au低阻欧姆接触
机译:数字蚀刻引起的III-V基板粗糙度和脱氧在实现低电阻金属触点中的作用
机译:工艺和蚀刻变量对接触电阻的影响
机译:高度芳族单分子蚀刻掩模的抗蚀刻性机理和发展:迈向分子光刻。
机译:耐药性突变L76V通过减少内部疏水接触来降低HIV-1蛋白酶的二聚稳定性和自恢复速率
机译:具有镍蚀刻石墨烯的低接触电阻石墨烯器件 往来
机译:接触电阻以及材料和工艺变量对开关装置中接触电阻和接触可靠性的影响