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机译:通过蚀刻量化晶圆充电
Lukaszek W.; Birrell A.H.;
机译:通过自适应实时计算原位过程信号中的过蚀刻时间,进行晶圆间等离子体栅极蚀刻控制的生产演示
机译:通过在电容耦合等离子体中定制电压波形来控制晶片的电子速度分布,以补偿高纵横比蚀刻特征的表面充电
机译:用于太阳能电池的倾斜刻蚀硅片估算AI_2O_3 / SiO_2的界面固定电荷
机译:使用EtchRate晶圆原位测量等离子体蚀刻速率
机译:脉冲激光刻蚀的部分透明硅晶片中的光透射和内部散射
机译:晶圆弓和蚀刻模式在直接晶圆键合中的作用
机译:一种用于太阳能电池的预蚀刻硅片表面的处理方法,包括使硅晶片的预蚀刻表面与碱土金属接触,并在预蚀刻表面上形成子结构
机译:带有蚀刻室屏蔽环的激光和等离子蚀刻晶片划片,用于胶片框架晶片应用
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