indium compounds; iron; III-V semiconductors; semiconductor epitaxial layers; planarisation; MOCVD; vapour phase epitaxial growth; semiconductor growth; electro-optical modulation; high-speed optical techniques; surface morphology; planarized selective regrowth; LP-MOVPE; tertiarybutylchloride; high-speed modulator devices; high-speed optoelectronic components;
机译:LP-MOVPE使用非气态源生长的RTD和HBT器件应用的InAIAs / InGaAs / InP异质结构
机译:通过窄孔的MOCVD选择性生长InP及其在InP HBT外源性基础再生中的应用
机译:用于130 GHz以上频率发电的已调制杂质浓度InP转移电子器件的比较
机译:LP-MOVPE使用叔丁基为高速调制装置的平坦选择性再生
机译:基于1.55μm的INP的DFB激光集成Mach-Zehnder调制器的光学反馈效果高达100 GBD数据传输=1.55μm基于INP的DFB激光器集成Mach-Zehnder调制器中的光学反馈效果最多100 GBD D.
机译:具有再生长阶梯边缘结构的单晶掺硼金刚石超导量子干涉装置
机译:LP-MOVPE用叔丁基氯化物对半绝缘InP的平面选择性再生长