high electron mobility transistors; aluminium compounds; gallium compounds; III-V semiconductors; wide band gap semiconductors; linearisation techniques; microwave field effect transistors; HEMT linearity characteristics; gate recessing effects; planar structures; gate recessed structures; RF two-tone measurements; device transconductance; 10 GHz; AlGaN-GaN;
机译:采用过渡隐栅技术制造的毫米波AlGaN / GaN HEMT,用于高增益和高线性度应用
机译:具有高增益和高线性应用的过渡凹槽技术制造的毫米波AlGaN / GaN HEMT
机译:含HfO2和Al2O3栅绝缘体的Si基AlGaN / GaN嵌入式MIS-HEMT的特性比较研究
机译:闸门凹陷对AlGaN / GaN Hemts线性特性的影响
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:面向增强模式特性的具有双AlGaN势垒设计的嵌入式栅AlGaN / GaN MIS-HEMT研究
机译:栅极漏电流对alGaN / GaN HEmT的影响由低频噪声和脉冲电测量证明,栅极漏电流对alGaN / GaN HEmT的影响由脉冲I-V和低频噪声测量证明