extreme ultraviolet lithography; EUV; schwarzschild objective; spatial frequency doubling; imaging;
机译:使用DDR工艺制造高纵横比透射光栅,以通过EUV干涉光刻技术评估10 nm EUV抗蚀剂
机译:使用DDR工艺制造高纵横比传动光栅10nm EUV抗蚀剂评估通过EUV干扰光刻
机译:使用DDR工艺制造高纵横比传动光栅通过EUV干扰光刻使用DDR工艺进行10-NM EUV抵抗评估
机译:使用干涉空间空间频率加倍成像在EUV中抵抗50nm的抗蚀剂评估
机译:成像干涉显微镜在可用频率空间的限制内。
机译:结肠组织的数字成像:通过组织学图像的空间频率特征评估炎症严重程度的方法
机译:多个纳米压印光刻技术和空间频率加倍的大面积50 nm周期光栅