机译:用于镶嵌图案的248nm和193nm光刻
机译:使用水溶性PVA,聚乙烯醇,模板的100nm尺寸的纳米压印光刻
机译:使用基于单体的热固化纳米压印光刻技术在柔性聚对苯二甲酸乙二醇酯基板上制备100nm尺寸的图案
机译:248NM光刻时代的亚100nm DRAM细胞图案化结果与镜头像差的关系
机译:用于一般变焦镜头设计的像差多项式的三阶像差解决方案
机译:图案化丝素蛋白模具在室温下通过纳米压印光刻法制备有序块状异质结太阳能电池
机译:纳米压印使用水溶性pVa,聚(乙烯醇),模板的100nm尺寸图案的光刻