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Modeling photoresist outgassing pressure distribution using the finite-element method

机译：使用有限元方法模拟光刻胶除气压力分布

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来源
《Ion Implantation Technology, 2000. Conference on》|2000年|P.247-250|共4页
会议地点
作者
LaFontaine; M.R.; Tokoro; N.;
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正文语种
中图分类无线电电子学、电信技术;
关键词

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