首页> 外文会议>Electron Devices Meeting, 1999. IEDM Technical Digest. International >Statistical pn junction leakage model with trap level fluctuation for Tref (refresh time)-oriented DRAM design
【24h】

Statistical pn junction leakage model with trap level fluctuation for Tref (refresh time)-oriented DRAM design

机译:面向Tref(刷新时间)的DRAM设计中具有陷阱能级波动的统计pn结泄漏模型

获取原文

摘要

By analyzing the anomalous junction leakage of a single tail bit and introducing the trap level fluctuation model, we have successfully established a methodology for predicting the refresh time (Tref) of the current and next generations for the Tref-oriented DRAM design optimization.
机译:通过分析单尾位的异常结泄漏并引入陷阱级波动模型,我们已成功建立了一种方法,用于预测Tref导向的DRAM设计优化的当前和下一代的刷新时间(TREF)。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号