机译:使用氮气含氮层的钛基材辐射作为预喷涂方法的氮化钛层的等离子体喷射沉积增强
机译:使用金属有机前体(C_(12)H_(23)N_3TI)和N_2等离子体的远程等离子体增强氮化钛膜的原子层沉积
机译:通过等离子体浸渍离子植入钛和锡真空抗沉积在Zrα1%Nb合金上获得的氮化钛(锡)涂层的氢渗透性
机译:用于深触点应用的钛和氮化钛的电离金属等离子体沉积
机译:用于直接板衬和铜扩散阻挡层应用的钌-氮化钛混合相层的等离子体增强原子层沉积。
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集
机译:使用金属有机和有机金属钛化合物作为前体,通过CVD在低温下沉积氮化钛薄膜
机译:用于HmC(混合微电路)应用的氮化钽,钛和钯薄膜沉积的DC磁控溅射系统的表征。