机译:超陡逆行通道掺杂分布对扩展器件性能的影响
机译:Ge预非晶化与逆向逆向接触改善了20nm以下N-FinFET的电流驱动能力
机译:具有深度逆向沟道分布的比例化MOSFET改善了器件可变性
机译:借助逆向通道轮廓观察到的设备驱动器电流衰减
机译:从界面陷阱处复合电流的线形中提取亚微米MOS晶体管中的沟道杂质浓度分布
机译:在表达NALCN通道的HEK293细胞中观察不到电流
机译:具有变速驱动器的电路中脉冲漏电流的剩余电流装置的免疫力
机译:低混合电流驱动中感应射频电流密度分布对q剖面和锯齿稳定演化的影响。