Double exposure lithography; inverse lithography; CEL; two-photon absorption resist; ILS;
机译:在X射线光刻中使用扩大的图案掩模在线条和空间图案形成中通过两次曝光极大地扩大了接近间隙(曝光方法向对称照明的演变)
机译:部分相干双曝光光刻技术的基于梯度的反光刻方法
机译:使用两次曝光和干涉光刻的光刻胶表征
机译:用于双曝光光刻与常规和新材料
机译:光刻技术的应用:用于双曝光光刻的材料建模和形状编码生物传感器阵列的开发
机译:孕妇纳米材料暴露:对孕妇子宫健康和胎儿发育的双重威胁?
机译:用于传统和新型材料的双曝光光刻的ILT