3D mask effects; polarization; OPC modeling; process window;
机译:具有三维蒙版效果的过程模型的非增量铬光学邻近校正方法
机译:掩模三维效应对抗蚀剂模型校准的影响
机译:减少计算光刻周期并提高工艺窗口可预测性的有效源掩模优化方法
机译:三维掩模效应和源偏振对OPC模型精度和工艺窗口的影响
机译:通过目标掩蔽的相似性和刺激不确定性的皮质听觉处理信息掩蔽效应
机译:源到侦听器之间的距离和掩蔽对混响室中人工耳蜗植入的语音感知的影响
机译:高精度65nm OPC验证:全工艺窗口模型与关键故障ORC
机译:在advanced photon source设计用于波荡器光束线前端的调试滤波器/掩模/窗口组件