implant lithography; wafer topography (WT or W3D); optical proximity correction (OPC); rigorous lithography simulation; etch simulation;
机译:双重图案化中地形晶片堆叠的严格衍射模拟
机译:具有严格掩模计算和简化抗蚀剂模型的EUV抗蚀剂模拟
机译:使用严格的SAR模拟技术校正地形图和DEM中的位置误差和几何变形
机译:植入物抗蚀剂在地形晶圆上的严格模拟
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:严格的神经网络仿真:在缺乏实验验证数据的情况下提高仿真结果正确性的模型验证方法
机译:GaAs晶片和SiO2 / Si3N4 / GaAs晶片的起泡和剥离机理研究HE +和H +植入