Extreme Ultraviolet Lithography; EUV Defect Avoidance; Pattern Shift; Smart Shift; Blank-Design Pairing Optimizer; Mask Shops; Mask Blank Manufacturers;
机译:离子束优化可减少EUV掩模空白缺陷
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:用于ArF线高透射衰减相移掩模空白应用的(TiO2)(ZrO2)(x)-(Al2O3)(1-x)复合薄膜的光学模拟,优化设计和制造
机译:通过智能换档和空白设计配对优化增强EUV掩码空白可用性
机译:通过基于智能手机的应用增强哮喘患者的自我管理:设计可用性评估和教育干预
机译:EUV-CDa:EUV掩模布局的模式转换感知临界密度分析