Hydrodynamic effect polishing; Ultra-smooth; Laser induced damage threshold; Improvement;
机译:抛光引起的表面杂质缺陷对熔融石英光学元件抗激光损伤的影响以及用HF酸腐蚀去除
机译:抛光诱导的地下杂质缺陷对熔融二氧化硅光学激光损伤性的影响及其用HF酸蚀刻去除
机译:在真空环境中提高光学涂层的激光诱导抗损伤性
机译:通过流动力效应抛光改善光学工件表面的激光诱导损伤阻力
机译:硝基甲烷的太赫兹光谱和激光诱导红外发射光谱,以及用10.6微米波长的二氧化碳激光器探测的半导体表面上激光诱导的载流子的光学特性。
机译:水溶性超精密抛光法加工的磷酸二氢钾(KDP)光学晶体的激光损伤
机译:抛光诱导的地下杂质缺陷对熔融二氧化硅光学激光损伤性的影响及其用HF酸蚀刻去除
机译:CO sub 2 - 激光二氧化硅表面的激光抛光,增加了1.06μm的激光损伤抗性